超純水設(shè)備
集成電路工業(yè)中用于半導(dǎo)體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制備和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固態(tài)電子器件、厚膜和薄膜電路、印刷電路、真空管等的制作也都要使用超純水

制備超純水設(shè)備的工藝大致分成以下幾種：
1、采用離子交換樹(shù)脂制備超純水的傳統(tǒng)水處理方式，其基本工藝流程為：原水→砂碳過(guò)濾器→陽(yáng)床→陰床→混床→純水箱→純水泵→后置精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)
2、采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進(jìn)行組合的方式，其基本工藝流程為：原水→砂碳過(guò)濾器→反滲透設(shè)備→原水箱→純水泵→混床→后置精密過(guò)濾器→純水箱→用水點(diǎn)
3、采用反滲透水處理設(shè)備與電去離子（EDI）設(shè)備進(jìn)行搭配的的方式，這是一種制取超純水的工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟(jì)，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に?，其基本工藝流程為：原?rarr;砂碳過(guò)濾器→反滲透設(shè)備→原水箱→純水泵→電去離子（EDI）→純水箱→用水點(diǎn)
4、采用反滲透+混合床方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→砂碳過(guò)濾器→反滲透→中間水箱→中間水泵→混合床→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)

以下為一經(jīng)典18x106Ω•cm工藝流程及圖片：
原水→原水泵→砂碳過(guò)濾器→加藥裝置→一級(jí)反滲透→中間水箱→PH調(diào)節(jié)裝置→二級(jí)反滲透→二級(jí)水箱→輸送泵→精密過(guò)濾器→TOC去除機(jī)→EDI→超純水箱→輸送泵→拋光混床→UV殺菌器→精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)